用来研究样品在低温或是室温到400℃状态下，晶体结构发生的变化。

主要技术参数：
　　温度设置范围：惰性气体　　　　　　 室温到+400℃
　　　　　　　　　真空 　　　　　　　　-193到+400℃
　　温度控制速度：从室温到设置温度 　　 >10分钟
　　温度控制精度：温度设定值　　　　　 ±0.5℃
　　温度设定方式：软件控制，连续设定
　　窗　　　　口：耐400℃、0.04㎜聚酯膜
　　制 冷 方 式：液氮（消耗量小于4L/h）